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北京HiPIMS，低溫ITO沉積的機會！
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關于新鉑
新鉑科技（東莞）有限公司成立于2020 年底，是新鉑科技的主要生產基地，具有4條組裝生產線和5條檢測調試線，廠房面積2000+，現(xiàn)有員工20+。是國內專業(yè)從事真空鍍膜系統(tǒng)的研發(fā)、制造、銷售為一體的國家級高新技術企業(yè)。其研發(fā)中心位于東莞市松山湖大學創(chuàng)新城，其研發(fā)人員均為碩士以上學歷（其中博士6人），在相關領域發(fā)表學術論文300余篇。
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60%
研發(fā)人員占比
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300+
發(fā)布學術論文
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4.5星級
客戶好評
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50+個
課題合作研發(fā)
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20+個
定制開發(fā)項目
企業(yè)榮譽
新聞中心
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北京新鉑科技助力東莞長安鎮(zhèn)真空鍍膜產業(yè)邁向新高地
2025年11月12日，“長安鎮(zhèn)真空鍍膜企業(yè)科技賦能研討會”（科技+產業(yè)方舟系列活動）在東莞市長安國際酒店成功舉行。本次會議由東莞市長安鎮(zhèn)經濟發(fā)展局與松山湖材料實驗室聯(lián)合主辦，新鉑科技（東莞）有限公司與平安銀行東莞分行共同協(xié)辦...
- 2025-11-24 09:29:02 | →
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北京新鉑科技推出“Hipims+arc”一體的電源模式：Himsarc
新鉑科技出席了2025年8月19-22在蘇州召開的30屆國際熱處理和表面工程大會，公司CTO做了“power supply of High power impulse magnetron sputtering and recent applications”的主旨報告，對于國內外的嘉賓分享了我們在Hipims研究領域包括電源和應用端的新進展。...
- 2025-09-01 16:07:48 | →
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北京真空鍍金專用高能脈沖磁控電源
新鉑公司CTO 2025年8月24日赴東莞麻涌鎮(zhèn)豪豐環(huán)保產業(yè)園參加了“電鍍金新技術”專題研討會，交流了真空鍍金的高能脈沖濺射電源及應用技術。...
- 2025-09-01 16:06:21 | →
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北京2024大灣區(qū)高能脈沖PVD高峰論壇在松山湖材料實驗室成功舉辦
12月14日，由松山湖材料實驗室、哈爾濱工業(yè)大學材料結構精密焊接與連接全國重點實驗室以及等離子體放電團隊孵化的高能脈沖PVD電源企業(yè)新鉑科技(東莞)有限公司聯(lián)合主辦的“2024大灣區(qū)高能脈沖PVD高峰論壇”在松山湖材料實驗室會議中心成功舉行。...
- 2024-12-18 11:47:48 | →
北京真空磁控濺射涂層技術與真空蒸發(fā)涂層技術的區(qū)別
真空磁控濺射涂層技術不同于真空蒸發(fā)涂層技術。濺射是指核能顆粒轟擊固體表面（目標），使固體原子或分子從表面射出的現(xiàn)象。...
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北京HIPiMS技術對材料性能有哪些具體影響
HIPiMS技術（高功率脈沖磁控濺射技術）對材料性能的影響主要體現(xiàn)在薄膜的微觀結構、致密度、機械性能以及功能特性等方面。...
- 2025-05-15 14:36:02 | →
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北京高功率脈沖是多少赫茲
在工業(yè)領域，像高功率脈沖激光加工設備，為實現(xiàn)材料切割、焊接或表面處理，其脈沖頻率一般在幾十赫茲到幾千赫茲。例如切割薄金屬板材時，幾十赫茲的脈沖頻率能在保證切割質量的同時，有效控制熱影響區(qū)域，防止板材因過熱變形。...
- 2025-03-15 10:57:21 | →
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北京反應氣體的選擇和配比如何影響真空鍍膜的成分和性能？
在化學氣相沉積（CVD）真空鍍膜中，反應氣體的選擇與配比宛如一雙無形卻有力的大手，對鍍膜的成分和性能起著決定性作用。...
- 2025-03-13 16:58:09 | →
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北京在光學鍍膜應用中，如何通過控制膜層厚度和折射率來實現(xiàn)特定的光學性能
設備精度保障：使用高精度的鍍膜設備，如采用電子束蒸發(fā)或磁控濺射設備，其厚度控制精度可達納米級。這些設備配備膜厚監(jiān)測儀，實時反饋膜層生長情況，控制提供硬件基礎。...
- 2025-03-07 10:24:23 | →
北京管道結垢難題有解了！DLC薄膜助力石油行業(yè)發(fā)展！
在石油行業(yè)，人們正在努力提高原油回收效率。例如，注入二氧化碳可以將原油的生產效率提高10%~15%。然而，隨著石油產量的增加，也面臨著更多的挑戰(zhàn)，管道腐蝕是其中之一。對于二氧化碳增強采收率（EOR）技術，生產油水混合物因高壓與二氧化碳過飽和而酸化，...
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北京真空鍍膜的附著力探討
一般來說，真空鍍膜可以具有較好的附著力。這主要是因為在真空環(huán)境下，鍍膜材料的原子或分子能夠以較高的能量和純凈度沉積在基材表面。與傳統(tǒng)的鍍膜方法相比，真空鍍膜減少了雜質和氧化的影響，從而有利于提高鍍膜與基材之間的結合力。...
- 2024-10-19 15:32:17 | →
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北京HiPIMS電源可以沉積氧化物嗎
HiPIMS（高功率脈沖磁控濺射，High Power Impulse Magnetron Sputtering）是一種薄膜沉積技術，它利用高頻脈沖電源產生的高密度等離子體來進行材料的濺射沉積。相較于傳統(tǒng)的直流磁控濺射（DCMS），HiPIMS技術具有更高的離子化率、更好的薄膜質量以及更均勻的薄膜厚度等優(yōu)點。因此，HiPIMS技術在薄膜沉積領域得到了廣泛的應用，尤其是在制備高質量、高性能薄膜材料方面表現(xiàn)突出。...
- 2024-09-29 10:22:14 | →